用離子源發出離子
，經引出
、加速
、取焦
，使其成為束狀
，用此離子束轟擊置於高真空室中的靶
，將濺射出的原子進行鍍膜
。氧氣被引入腔體內
，與金屬氣體重新氧化
，從而實現氧化物薄膜
。由於離子束濺射沉積過程所引入的高能過程生成一致性好
，高密度
，非晶結構
，具有優良牢固度的膜層
，從而帶來了優良的環境穩定性和機械耐久性
。IBS所生成的膜層粗糙度好
，所帶來的膜層散射損耗小
。
相比於其他類型的沉積方式
，由於沉積速率慢
，控製精度高等特點
，往往被用於生成高精度光譜要求的產品
，例如GFF等
。
但IBS的缺點在於其對蒸發材料有所限製
，往往隻能用於加工金屬氧化物
；以及加工成本較高
。
